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Personnel d'un organisme de recherche

Christophe CARDINAUD

Chercheur

Coordonnées

Institut des matériaux Jean Rouxel 2 rue de la Houssinière BP32229 F-44322 Nantes cedex3

Tél
33 (n° interne : 0)
Mail
Christophe.Cardinaud@univ-nantes.fr

Discipline(s) enseignée(s)

Caractérisation des surfaces par spectroscopie électronique et ionique

Thèmes de recherche

Gravure et traitement de matériaux par plasmas froids. Etudes des mécanismes d'interaction plasma - surfaces

Activités / CV

Christophe CARDINAUD

né le 3 décembre 1959
physico-chimiste
directeur de recherche CNRS
Institut des matériaux Jean Rouxel (IMN), 2 rue de la Houssinière - BP 32229, 44322 Nantes cedex 3
tel: +33 240 37 39 61, courriel: christophe.cardinaud@cnrs-imn.fr

Formation
1990: Habilitation à diriger des recherches, Université de Nantes, spécialité Microélectronique
1982-1985: Doctorat en Chimie physique, Université Pierre & Marie Curie (Paris VI) : Distribution électronique de semi-conducteurs amorphes hydrogénés (a-SiGe:H et a-Si:H,Cl) par spectroscopie X et électronique
1981-1982: DEA de Chimie physique, Université Pierre & Marie Curie (Paris VI
1977-1981: Université Pierre & Marie Curie (Paris VI)

Fonctions et responsabilités
2016-présent: Responsable adjoint de l'équipe Plasmas et Couches Minces de l'IMN
2013-2014: Coordination du Réseau des Plasmas Froids (RPF - CNRS, plasmasfroids.cnrs.fr)
2013-présent: Membre suppléant au Conseil du Département de Physique, Université de Nantes

1998-2006: Responsable de l'équipe Gravure par plasma du Laboratoire des Plasmas et des Couches Minces de l'IMN

Biographie
Après un parcours universitaire et une thèse sur la caractérisation structurale de semi-conducteurs amorphes SiGe:H et Si:H,Cl par spectroscopies X et électronique, j'ai intégré le CNRS et rejoint l'IMN pour y travailler sur la caractérisation de surfaces et de matériaux en couches minces traités par plasma froids (1985-1988). Mon centre d'intérêt s'est alors étendu à l'étude des procédés plasma pour la gravure de matériaux semi-conducteurs, diélectriques ou métalliques (1988-présent). Je me suis intéressé et formé à la physique des décharges excitées en radiofréquence dans les gaz à basse pression (~1 Pa) et à leurs diagnostics. J'ai ainsi développé une expertise sur la gravure des matériaux Si, SiO2, organosiliciés low-k, verres de silice et W en plasma fluoré (SF6, CHF3, C2F6), sur la gravure de InP en plasma CH4-H2 ; sur la caractérisation physiques et chimiques des plasmas par spectrométrie de masse, spectrométrie optique en émission et sondes électrostatiques ; sur la caractérisation des surfaces et des interfaces par spectrométrie de photoélectrons, ellipsométrie et microscopie de champ proche. Mon domaine d'activité et de compétence est donc celui des procédés plasmas rf à basse pression et l'étude des mécanismes d'interaction plasma - surface pour la gravure ou le traitement de matériaux. Mon activité de recherche actuelle concerne la gravure des matériaux pour la photonique et l'optique intégrée: CdHgTe en plasma de CH4-H2, InP en plasma chloré et verres chalcogénure.

Principales collaborations industrielles, projets européens & nationaux
Coordinateur du projet ANR 11-ASTR-018 Graine (2012-2015)
Responsable pour l'IMN du projet FUI Bird (2011-2015)
Coordinateur adjoint du projet ANR 09-BLAN-019 Incline (2009-2012)
Responsable pour l'IMN des projets européens IST Crispies (2001-2004), IST Chanil (2000-2002) et Esprit Nanotech (1998-2000)

Publications
111 articles dans revues internationales à comité de lecture, 5 chapitres de livres, 47 actes de colloques à comité de lecture, 182 communications dans des congrès internationaux et nationaux, 10 conférences invitées dans des congrès internationaux et nationaux

Animation scientifique
Conférences internationales: Membre du comité de programme de l'International Colloquium on Plasma Processes (CIP-SFV, 2011-2017), Membre du comité de programme de Micro-Nano-Engineering (MNE, 2008-2018)
Conférences nationales et Ateliers: Membre du comité de programme des Journées Nationales des Technologies Emergentes (JNTE, 2013-présent), Membre du comité d'organisation des Journées du Réseau des Plasmas Froids de 2009 à 2014
Gestion d'appareillages: Initiateur et responsable de la plateforme Optimist, outil mutualisé du Réseau des Plasmas Froids - CNRS (2006-présent)
Edition: Directeur de rédaction du volume Plasmas Froids VIII Plasma et son environnement, collection Intégration des savoirs et des savoir-faire, Edition CNRS-MRCT, 2012

Enseignement
Académique
2008-2019 Caractérisation des surfaces - spectroscopie électronique et ionique, Master 2 C'Nano, Université de Nantes
2004-2008, Nanostructuration, Caractérisation des surfaces, Master 2 Matériaux et matière, Université de Nantes
2001-2004 Lithographie, Gravure, Caractérisation des surfaces, DEA Science des matériaux, Université de Nantes
Formation permanente "industrielle"
2004-présent: Animateur de la formation Gravure de matériaux par plasma de la Société Française du Vide (vide.org)
2001-2004: Introduction à l'ellipsométrie (CNRS)
2001-2003: Physico-chimie des plasmas de gravure, Analyse de surfaces traitées par plasma (CEETAM-CNRS)
Conférences et Ateliers
2001-2009: CIP-short courses Plasma etching for microelectronics and microtechnology

Sociétés savantes
Membre de la Société Française du Vide (vide.org), Membre de la Société Française de Physique (https://www.sfpnet.fr).

Ressources en ligne
Researchgate : http://www.researchgate.net/profile/Christophe_Cardinaud
Researcherid : http://www.researcherid.com/rid/G-3074-2012

Mis à jour le 23 février 2024.
https://sciences-techniques.univ-nantes.fr/christophe-cardinaud